近日，Substrate這家以X射線為光源的光刻技術(shù)初創(chuàng)企業(yè)宣布，谷歌DeepMind的AlphaEvolve編程智能體極大優(yōu)化了其計(jì)算光刻技術(shù)堆棧。在短短一個(gè)月內(nèi)，Substrate通過(guò)引入AlphaEvolve，實(shí)現(xiàn)了計(jì)算光刻工作負(fù)載運(yùn)行速度提升680%、計(jì)算成本降低97%、內(nèi)存用量降低94%的顯著成效。AlphaEvolve的引入不僅大幅降低了計(jì)算光刻所需的分辨率，還使得工作負(fù)載適合在算力成本較低的谷歌TPU上運(yùn)行。

Substrate團(tuán)隊(duì)利用AlphaEvolve自動(dòng)化探索了數(shù)十萬(wàn)個(gè)潛在算法改進(jìn)點(diǎn)，僅以一次光刻就實(shí)現(xiàn)了12nm特征尺寸的雙向M1金屬互聯(lián)層，達(dá)到了HighNAEUV系統(tǒng)的水平。AI技術(shù)的引入使得Substrate能夠提前掌握技術(shù)的弱點(diǎn)和改進(jìn)方法，避免了大量反復(fù)的實(shí)際測(cè)試。Substrate認(rèn)為，模型與芯片協(xié)同進(jìn)化是計(jì)算智能的未來(lái)，而AlphaEvolve正是實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)的關(guān)鍵。